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這次大會是由芬蘭PICOSUN公司和復(fù)旦大學主辦，南京大學、中國科學院上海技術(shù)物理研究所、上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心和我們北京正通遠恒科技有限公司聯(lián)合承辦，旨在方便中國科研工作者交流分享ALD技術(shù)的更新研究進展和相關(guān)領(lǐng)域的研究成果。

報告人介紹：
        張衛(wèi)教授：1995年6月畢業(yè)于西安交通大學，獲博士學位。1995-1997年在復(fù)旦大學做博士后，1997年起任教于復(fù)旦大學，1999年晉升為教授?，F(xiàn)任復(fù)旦大學微電子學系系主任、復(fù)旦-Novellus互連研究中心主任，“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國家重大專項（02專項）總體組專家、上海市科學技術(shù)預(yù)見專家。在Applied Physics Letters、Journal of Applied Physics等期刊和會議上發(fā)表論文180多篇，申請15項，合作出版學術(shù)著作1部。曾獲得教育部二等獎。

　　研究方向：集成電路工藝、微細加工技術(shù)和半導(dǎo)體器件。具體包括（1）先進銅互連工藝研究。如超低k互連介質(zhì)，新型超薄擴散阻擋層，以及納米尺度Via填充工藝等；（2）原子層淀積（ALD）工藝研究。如ALD高k柵介質(zhì)，基于ALD工藝的高密度MIM電容等；（3）新型存儲器。如納米晶存儲器、RRAM等；（4）基于納米線和納米管的晶體管，以及隧穿場效應(yīng)晶體管（TFET）等新結(jié)構(gòu)器件研究。
李愛東教授： 1988年在浙江大學化工系獲學士學位。1988－1994年在哈爾濱工業(yè)大學應(yīng)用化學系工作，1993年獲得化學系碩士學位。1996年獲南京大學物理系理學博士學位。1996年至今，在南京大學材料系工作，從事科研和教學工作。2000年香港理工大學的訪問學者，2005年加州大學伯克利分校訪問學者。入選2004年教育部新世紀人才計劃。主持和參與了國家自然科學基金、“973”、教育部、江蘇省和與國外公司的合作項目等多項課題。已在學術(shù)期刊上發(fā)表SCI論文90余篇。獲得中國發(fā)明10項。研究方向：化學法制備科學（溶膠凝膠法、金屬有機氣相沉積法、原子層化學沉積法）：薄膜生長工藝、動力學、機理和微結(jié)構(gòu)；自聚集制備科學；集成鐵電學基礎(chǔ)：鐵電薄膜和柵介電薄膜與硅的集成；有機極化功能聚合物材料的制備與極化特性。
關(guān)于Picosun Oy
    　Picosun是一家致力于開發(fā)和生產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）的公司。ALD主要應(yīng)用于微米和納米技術(shù)方面。在芬蘭，Picosun公司連續(xù)擁有ALD反應(yīng)器生產(chǎn)的專有技術(shù)已經(jīng)長達三十多年。Picosun公司坐落于芬蘭的Espoo，其美國總部在底特律。使用SUNALE型ALD系統(tǒng)的用戶遍布，包括*高校與科研機構(gòu)。

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